在(zai)線(xian)循(xun)環管(guan)線(xian)式(shi)超高速(su)高(gao)剪(jian)切(qie)石(shi)墨(mo)烯(xi)分(fen)散機

在線(xian)循(xun)環管(guan)線(xian)式(shi)超高速(su)高(gao)剪(jian)切(qie)石(shi)墨(mo)烯(xi)分(fen)散機

石(shi)墨烯(xi)（Graphene）是(shi)壹(yi)種(zhong)由(you)碳原(yuan)子以(yi)sp2雜化軌道組成六(liu)角型呈(cheng)蜂巢晶(jing)格的(de)平面薄(bo)膜(mo)，只(zhi)有壹(yi)個碳原(yuan)子厚(hou)度的(de)二(er)維(維)材料。石(shi)墨烯(xi)目(mu)前(qian)是(shi)世上較(jiao)薄(bo)卻(que)也是堅硬(ying)的(de)納(na)米(mi)材料，幾(ji)乎(hu)*透(tou)明，只(zhi)吸(xi)收(shou)2.3%的光(guang)；導(dao)熱(re)系(xi)數(數)高(gao)達(達)5300W/m，高(gao)於碳納(na)米(mi)管(guan)和(he)金剛石(shi)，常(chang)溫(wen)下其電子遷移(yi)率(lv)超過15000cm2/Vs，又(you)比(bi)納(na)米(mi)碳管(guan)或矽晶(jing)體(ti)高(gao)，而(er)電阻率只(zhi)約10-8Ω/m

石(shi)墨(mo)烯(xi)剝離(li)方(fang)法

1.機(ji)械(xie)剝離(li)法||在(zai)線(xian)循(xun)環管(guan)線(xian)式(shi)超高速(su)高(gao)剪(jian)切(qie)石(shi)墨(mo)烯(xi)分(fen)散設備(bei)

在(zai)線(xian)式(shi)超高速(su)高(gao)剪(jian)切(qie)均(jun)質(zhi)機(ji)（包括上海歐河(he)ODG系列(lie)超高速(su)研磨(mo)剪(jian)切(qie)分(fen)散乳化(hua)機(ji)）剝離(li)制(zhi)備(bei)石(shi)墨烯是利(li)用(yong)高(gao)速旋(xuan)轉產生的(de)能量，使石墨材料受到強烈(lie)的(de)機(ji)械(xie)及(ji)液(ye)力(li)剪(jian)切(qie)、高(gao)速(su)撞擊剝離(li)、離(li)心(xin)擠壓(ya)力(li)、液層(ceng)摩擦(ca)和(he)氣(qi)蝕等綜(zong)合作用下，使(shi)石(shi)墨層與層(ceng)之間產生晶(jing)面(mian)水平(ping)錯(cuo)位和(he)滑移(yi)運(yun)動(dong)，進而將(jiang)石墨(mo)快(kuai)速剝離(li)，經(jing)過(guo)高(gao)頻(pin)的循(xun)環往復(fu)，終(zhong)得(de)到(dao)穩(wen)定(ding)的石墨烯(xi)。而(er)在(zai)分散制備(bei)的(de)過程(cheng)中(zhong)，線(xian)速度和(he)剪(jian)切(qie)力(li)以(yi)及(ji)角(jiao)向(xiang)速度(du)都(dou)是影(ying)響(xiang)剝離(li)結果(guo)的(de)重(zhong)要影響(xiang)因(yin)素，ODG系(xi)列(lie)采用(yong)的研磨(mo)式(shi)工作剪(jian)切(qie)頭(tou)（間歇(xie)可調），高(gao)可達15000rpm的(de)轉速，以(yi)及(ji)50米(mi)/秒(miao)以(yi)上的線(xian)速度，是(shi)玻璃(li)石(shi)墨(mo)烯(xi)的(de)很好的選(xuan)擇。

2.化(hua)學氣(qi)相沈(chen)積(ji)法（CVD）||在(zai)線(xian)循(xun)環管(guan)線(xian)式(shi)超高速(su)高(gao)剪(jian)切(qie)石(shi)墨(mo)烯(xi)分(fen)散設備(bei)

3.氧(yang)化(hua)-還原法||在(zai)線(xian)循(xun)環

管(guan)線(xian)式(shi)超高速(su)高(gao)剪(jian)切(qie)石(shi)墨(mo)烯(xi)分(fen)散設備(bei)

氧(yang)化(hua)-還原法是(shi)指(zhi)將天(tian)然石墨(mo)與強(qiang)酸(suan)和(he)強氧(yang)化(hua)性物質(zhi)反應生成(cheng)氧(yang)化(hua)石墨（GO），經(jing)過(guo)超聲分(fen)散制備(bei)成(cheng)氧(yang)化(hua)石墨烯，然後(hou)加入還原(yuan)劑去(qu)除氧(yang)化(hua)石墨表面的含氧(yang)基團後(hou)得(de)到(dao)石(shi)墨(mo)烯。氧(yang)化(hua)-還原法制(zhi)備(bei)成(cheng)本較(jiao)低容(rong)易實(shi)現(xian)，成(cheng)為(wei)生產石墨烯的(de)主流(liu)方(fang)法。但(dan)是(shi)該(gai)方(fang)法所(suo)產生的(de)廢(fei)液對(dui)環境汙(wu)染(ran)比(bi)較(jiao)嚴重(zhong)，所(suo)制備(bei)的(de)石墨烯壹(yi)般(ban)都(dou)是(shi)多(duo)層石墨烯或(huo)者(zhe)石墨微晶(jing)而(er)非嚴格意(yi)義(yi)上的石墨(mo)烯，並(bing)且產品存(cun)在(zai)缺(que)陷(xian)而導(dao)致石墨(mo)烯部(bu)分(fen)電學和(he)力(li)學性能損失(shi)。

4.溶(rong)劑剝離(li)法||

在(zai)線(xian)循(xun)環管(guan)線(xian)式(shi)超高速(su)高(gao)剪(jian)切(qie)石(shi)墨(mo)烯(xi)分(fen)散設備(bei)

溶(rong)劑剝離(li)法的(de)原(yuan)理(li)是將少(shao)量的石墨分散於溶(rong)劑中形(xing)成(cheng)低濃(nong)度(du)的(de)分(fen)散液，利(li)用超聲波的作用破(po)壞(huai)石墨層(ceng)間的範德(de)華(hua)力(li)，溶(rong)劑插入(ru)石墨(mo)層(ceng)間，進行(xing)層(ceng)層(ceng)剝離(li)而(er)制備(bei)出(chu)石墨烯。此(ci)方(fang)法不會像(xiang)氧(yang)化(hua)-還原法那(na)樣破壞石墨(mo)烯(xi)的(de)結構，可以(yi)制備(bei)高(gao)質(zhi)量的石墨烯。缺(que)點(dian)是(shi)成(cheng)本較(jiao)高並(bing)且產率很低，工業(ye)化(hua)生產比(bi)較(jiao)困難(nan)。當然，石墨(mo)烯的(de)制(zhi)備(bei)方(fang)法還(hai)有(you)溶(rong)劑熱法、高(gao)溫(wen)還(hai)原、光照還(hai)原(yuan)、外(wai)延晶(jing)體(ti)生長(chang)法、微(wei)波法、電弧(hu)法、電化學法等(deng)，這些(xie)方(fang)法都(dou)不及(ji)上述四種方(fang)法普遍。不要(yao)混淆(xiao)！！！還(hai)原氧(yang)化(hua)石墨烯，即RGO。壹般(ban)來(lai)說，氧(yang)化(hua)石墨烯是(shi)由(you)石墨(mo)經(jing)強(qiang)酸(suan)氧(yang)化(hua)，然後(hou)再經(jing)過(guo)化(hua)學還原(yuan)或者(zhe)熱(re)沖擊還原得(de)到(dao)。

在(zai)線(xian)循(xun)環管(guan)線(xian)式(shi)超高速(su)高(gao)剪(jian)切(qie)石(shi)墨(mo)烯(xi)分(fen)散機